Обеспечивает равномерную

Пайка в печи с контролируемой атмосферой обеспечивает равномерность нагрева, точность поддержания температуры и времени выдержки, стабильность качества, легко поддается автоматизации, устраняет операции флюсования и последующей очистки. Нагрев паяемых деталей осуществляется в активной газовой

Если некоторые из упорных колодок по каким-либо причинам выйдут из контакта с пятой, то остальные колодки через рычажную систему будут перемещать их до тех пор, пока осевые усилия, действующие на все колодки, не станут одинаковыми. Данная система распределения нагрузки между колодками хотя и представляется сложной и трудоемкой при изготовлении, обеспечивает равномерность осевой нагрузки по всем колодкам.

Существуют две технологические схемы плавки в гарнисаже: с вводом энергии сквозь боковую стенку, сквозь гарнисаж ( 14-12, а), и с вводом энергии сквозь поверхность ванны ( 14-12, б). Схема 14-12, а обеспечивает равномерность температурного поля по высоте и высокий КПД индуктора. Схема 14-12, б характеризуется перегревом

Перед началом напыления проводится ионная очистка поверхности подложки. Ионы с низкой энергией, ударяясь о поверхность подложки, удаляют с нее загрязнение (ионное травление, см. § 2.6). Так же может быть произведена и очистка мишени. Очистка мишени и подложки способствует чистоте пленок и их хорошей адгезии к подложкам. В отличие от катодного распыления подложка не влияет на напряженность электрического поля и скорость распыления, что обеспечивает равномерность толщины пленки и дает возможность напылять ее через металлический трафарет, накладываемый на подложку. При этом одновременно формируется и рисунок пленок, что существенно для гибридных микросхем.

для закрепления и натяжения диска алмазного отрезного круга на барабан. Оно обеспечивает равномерность растягивающих усилий и высокое качество натяжения диска.

Теоретически унос вещества при наличии плазмы между электродами должен быть близок к закону косинуса, т. е. разность толщины пленки в центре и по краям подложки должна зависеть от расстояния между электродами и их диаметров. Уменьшению толщины пленки на краях подложки, однако, противодействует увеличение скорости уноса материала с краев мишени, вызванное заметным ростом локальных градиентов поля. Чтобы избежать неравномерности распыления мишени, целесообразно использовать экраны с боковым охватом мишени. Это позволяет снизить унос вещества с краев и создать такое распределение скорости распыления мишени, которое обеспечивает равномерность толщины пленки на уровне 5 — 10%' по всей поверхности подложки. Для этого необходимо соблюдать также строго параллельное расположение электродов относительно друг друга. Расстояние между электродами сильно влияет на скорость распыления, например увеличение расстояния от 2,5 дб 10 см приводило к снижению скорости распыления в 10 раз.

Характерными недостатками центрифугирования являются наличие краевого утолщения слоя (что обеспечивает равномерность по толщине лишь^в пределах ±10%) и наличие прогрессирующих дефектов слоя в области вкрапленных инородных частиц из-за действия центробежных сил.

Усовершенствованная конструкция такого испарителя показана на 13, б. Из испаряемого материала делают стержень с резьбой, который ввинчивают по мере его расходования. Контролируемая подача обеспечивает равномерность испарения материала.

Характерными недостатками центрифугирования являются наличие краевого утолщения слоя (что обеспечивает равномерность по толщине лишь^в пределах ±10%) и наличие прогрессирующих дефектов слоя в области вкрапленных инородных частиц из-за действия центробежных сил.

Для изготовления биметалла применяют два способа: горячий (стальную болванку ставят в форму, а промежуток между болванкой и стенками формы заливают расплавленной медью; полученную после охлаждения биметаллическую болванку подвергают прокатке и протяжке) и холодный, или электролитический (медь осаждают электролитически на стальную проволоку, пропускаемую через ванну с раствором медного купороса). Холодный способ обеспечивает равномерность толщины медного покрытия, но требует значительного расхода электроэнергии; кроме того, при холодном способе не обеспечивается столь прочное сцепление слоя меди со сталью, как при горячем способе.

чину а в сторону вращения. Если некоторые из упорных колодок по каким-либо причинам выйдут из контакта с пятой, то остальные колодки через рычажную систему будут перемещать их до тех пор, пока осевые усилия, действующие на все колодки, не станут одинаковыми. Данная система распределения нагрузки между колодками хотя сложна и трудоемка при изготовлении, но обеспечивает равномерность осевой нагрузки по всем колодкам. Осевой подшипник в насосе реактора ВВЭР-1000 выполнен в одном блоке с двумя радиальными гидродинамическими подшипниками Рассмотренные конструкционные решения по осевым подшипникам характерны и для зарубежных ГЦН с уплотнением

Подробный анализ работы ОЗУ типа 2,50 (см., например, [1]) показывает, что наименьшее число управляющих проводов при заданной емкости получится в том случае, когда число шин Y равно общему для всех п матриц числу шин X. Квадратная форма матрицы обеспечивает равномерную нагрузку формирователей адресных и разрядных токов, а также сокращает их количество, что приводит к упрощению 'электронного оборудования. При задавшей емкости число проводов, прошивающих сердечники, оказывается наибольшим для системы 3D и наименьшим для системы 2D; система 2,50 в этом отношении занима-.ет промежуточное положение, чем и объясняется ее название, '

Линейная зависимость С/о от Umx обеспечивает равномерную шкалу прибора.

4) возможность репродуцирования в проходящем свете, что обеспечивает равномерную освещенность по всему полю изображения. . .

Известны установки нанесения фоторезиста на основе ПВС валковым способом с последующей сушкой теплонагревателями. Этот способ обеспечивает равномерную толщину фоторезиста на заготовках с предварительно просверленными отверстиями.

4) возможность репродуцирования в проходящем свете, что обеспечивает равномерную освещенность по всему полю изображения. . .

1. Нагрев в однофазном индукторе аналогичен нагреву на средней частоте. Такая схема самая, удобная для создания наиболее-простой конструкции нагревателя и средств автоматического управления. Однако она не обеспечивает равномерную загрузку фаз питающего трансформатора, типовая мощность которого в этом случае должна быть увеличена в 1,73 раза (при питании от трехфазного трансформатора). Неравномерность загрузки дополнительно вызывает перекос фаз в энергосистеме. Схема рекомендуется для установок небольшой мощности (меньше

в аксиальном направлении (вдоль вала), в одном месте он имеет радиальный разрез. Сборка листов в пакет веерная, что обеспечивает равномерную магнитную проводимость пакетов по любой оси. Пакеты внешнего магнитопровода шихтованы вдоль вала сельсина. Ротор сельсина 7 состоит из двух пакетов, разделенных немагнитным промежутком 8. Каждый пакет собран из изолированных листов электротехнической стали, причем плоскости листов ротора параллельны валу сельсина. Немагнитный промежуток — обычно пластмасса, в которую запрессованы листы обоих пакетов ротора. Иногда в качестве немагнитной прослойки применяют сплав, например силумин.

Общий вид промышленной установки, используемой при нанесении тонких пленок, показан на 4.9. Наиболее широко используется установка типа УВН-2М-2, обеспечивающая предельный вакуум в рабочей камере 5-10~7 Па. Внут-рикамерное устройство этой установки содержит восьми-позиционную карусель масок и подложек. Привод, расположенный в верхней части рабочей камеры, может вращать карусель со скоростью 40—150 об/мин. На одной из позиций карусели устанавливается имитатор с закрепленными на нем датчиками контроля температуры и сопротивления пленки в процессе осаждения. На базовой плите монтируется пятипозиционная карусель резистивных испарителей. Максимальная температура испарения 1500°С. Диафрагма, расположенная над каруселью на позиции испарения, обеспечивает равномерную толщину наносимой пленки. Поток испаряемого материала прерывается заслонкой с электромагнитным приводом. Над каруселью подложек и масок установлен кольцевой нагреватель резистивного типа мощностью 3 кВ-А. Одновременно можно нагружать восемь подложек, размеры последних составляют 60X48X0,6 мм, а допу-; стимая температура нагрева +400°С.

В Минэнерго СССР накоплен большой опыт по централизации ремонтных работ и изготовлению запасных частей. В составе Министерства длительное время функционирует Главэнергоре-монт, который осуществляет централизованное производство наиболее сложных ремонтов оборудования электростанций, что обеспечивает помимо повышения качества работ сокращение ремонтного персонала электростанций на 20—25%. Однако эффект от централизации ремонтов (по энергосистемам в целом) еще недостаточен, в частности, по причине того, что капитальный ремонт оборудования электростанций производится, как правило, в летнее время. Сезонность ремонтных работ не обеспечивает равномерную загрузку ремонтного персонала.

ка отсутствует). Было рассмотрено несколько вариантов исходных данных, по которым производилось восстановление рг (х) : использовалась информация только об осевых, только о кольцевых и совместно о тех и других напряжениях на наружной поверхности. Стабилизирующие функционалы брались в пространствах L2, W\, W\, что соответствовало регуляризации 0-го, 1-го и 2-го порядков. Сплошная кривая 1 соответствует точному распределению касательных нагрузок. Кривая 2 является приближенным решением при регуляризации 0-го порядка, а кривая 3 — при регуляризации 1-го порядка. Для данных, приведенных на рисунке, использовалась информация только об осевых напряжениях в минимально необходимом количестве точек (при девяти неизвестных значениях функции рг (х/) значения напряжений брались в девяти равномерно распределенных точках на участке 0
Принятая специальная система подвес^ ки шинопровода к траверсам металлических опор обеспечивает равномерную механическую нагрузку шин. Для распорок применены новые высокопрочные грязёетайкие изоляторы типа ФШФ-6.